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2020.08.25
中国における画像意匠の保護制度中国における画像意匠の保護制度について、平面パターンとグラフィカルユーザインターフェース（GUI）に分けて解説する。
平面パターンは中国専利法第2条の規定に基づき意匠専利として申請できる。また、2019年11月1日に改正が施行された『専利審査指南』において、第1部分第3章に「4.4 グラフィカルユーザインタ-フェースに係る製品意匠」という節が新たに設けられた。 -
2020.08.04
中国における専利審査指南の改正（前編）中国において2019年9月23日に改正された「専利審査指南」は、2019年11月1日から実施され、2019年11月1日（当日を含む）以降に受理された新たな専利出願および審査段階にある案件に適用される。本稿では前編、後編に分けて今回の指南の改正の背景、改正内容、および出願人に対する影響について解説を行う。