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2025.01.07
中国における画像意匠の保護制度中国における画像意匠の保護制度について、平面パターンとグラフィカルユーザインターフェース（GUI）に分けて解説する。平面パターンは中国専利法第2条の規定に基づき意匠専利として出願できる。また、2024年1月20日に施行された、改正「専利審査指南」（2023）において、GUIの審査内容が第1部分第3章第4.5節に記載されており、新たに追加された部分意匠制度の内容（審査指南第1部分第3章4.4）と合わせて、GUIに係る意匠の審査ルールが整備された。
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2020.08.25
中国における画像意匠の保護制度（本記事は、2025/1/7に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/40409/中国における画像意匠の保護制度について、平面パターンとグラフィカルユーザインターフェース（GUI）に分けて解説する。
平面パターンは中国専利法第2条の規定に基づき意匠専利として申請できる。また、2019年11月1日に改正が施行された『専利審査指南』において、第1部分第3章に「4.4 グラフィカルユーザインタ-フェースに係る製品意匠」という節が新たに設けられた。 -
2020.08.04
中国における専利審査指南の改正（前編）中国において2019年9月23日に改正された「専利審査指南」は、2019年11月1日から実施され、2019年11月1日（当日を含む）以降に受理された新たな専利出願および審査段階にある案件に適用される。本稿では前編、後編に分けて今回の指南の改正の背景、改正内容、および出願人に対する影響について解説を行う。