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■ 全8件中、18件目を表示しています。

  • 2024.06.11

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける特許新規性喪失の例外

    シンガポールにおいて、発明が新規とみなされるのは、絶対的新規性要件を満たしている場合だけである。ただし、シンガポールの法律が規定する猶予期間(グレースピリオド、日本と同様12か月)内であれば、出願の提出日より前の一般開示は、発明の新規性評価の際に無視される。2017年10月の改正により、発明者により行われた開示、または発明者から直接的または間接的に発明の主題を知った者が行うあらゆる開示を包括的に対象とすべく、発明の新規性喪失の例外規定の適用範囲が拡大された。シンガポール知的財産庁(以下、「IPOS」という。)は、発明の新規性喪失の例外規定の拡大は、発明が出願に先立って公知となった場合の限定的なセーフティネットを提供するものであり、各国で同様の例外規定があるわけではないため、出願前に発明を公知とすることのないよう、出願人に注意を呼び掛けている。

  • 2019.10.10

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 意匠

    日本とシンガポールにおける意匠の新規性喪失の例外に関する比較

    シンガポールにおける意匠出願の新規性喪失の例外規定の適用要件は、意匠法第8条及び第8A条に規定されている。2017年改正意匠法第6条の施行日(2017年10月30日)以降に生じた開示については、公開から12か月以内(従来は6か月)に出願することを条件として、新規性喪失の例外を主張することが可能である。日本における意匠出願の新規性喪失の例外期間は平成30年改正意匠法により延長され、公開から1年以内(従来は6か月)となった。

  • 2019.09.05

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    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける特許新規性喪失の例外

    (本記事は、2024/6/11に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/39274/

    (2022年6月14日訂正:
    本記事のソース「シンガポール知的財産庁の特許出願審査ガイドライン」「特許方式審査マニュアル(Patents Formalities Manual)」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。)

    シンガポールにおいて発明が新規とみなされるのは、絶対的新規性要件を満たしている場合だけである。ただし、シンガポールの法律が規定する猶予期間(グレースピリオド、日本と同様12か月)内であれば、出願の提出日より前の一般開示は、発明の新規性評価の際に無視される。2017年10月の改正により、発明者により行われた開示、または発明者から直接的または間接的に発明の主題を知った者が行うあらゆる開示を包括的に対象とすべく、発明の新規性喪失の例外規定の適用範囲が拡大された。シンガポール知的財産庁(IPOS)は、発明の新規性喪失の例外規定の拡大は、発明が出願に先立って公知となった場合の限定的なセーフティネットを提供するものであり、各国で同様の例外規定があるわけではないため、出願前に発明を公知とすることのないよう、出願人に注意を呼び掛けている。

  • 2017.06.22

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    シンガポールにおける特許新規性喪失の例外

    (本記事は、2019/9/5に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17678/

    シンガポールにおいて発明が新規とみなされるのは、絶対的新規性要件を満たしている場合だけである。ただし、シンガポールの法律が規定する猶予期間内であれば、出願の提出日より前の限られた種類の一般開示は、発明の新規性評価の際に無視される。全体的に見て、限られた種類の一般開示のみを新規性評価の際に無視することを認めるシンガポールのアプローチは、日本のアプローチと似ている。主な相違点は、シンガポールが12か月の猶予期間を定めているのに対し、日本の猶予期間は6か月と短いことである。

  • 2015.10.02

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    日本とシンガポールにおける意匠の新規性喪失の例外に関する比較

    (本記事は、2019/10/10に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17783/

    シンガポールにおける意匠出願の新規性喪失の例外規定の適用要件は、意匠法第8条に規定されている。日本の規定とは異なっており、意匠登録を受ける権利を有する者の行為に基づいた公開に対しての例外規定は適用されない。ただし、国際的な博覧会での展示に関しては、開催後6ヵ月以内に出願することを条件として、新規性喪失の例外を主張することが可能である。

  • 2014.06.17

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    • 意匠

    シンガポールにおける意匠の登録事由と不登録事由

    シンガポールにおいて意匠登録が認められるためには新規性が必要であるが、一定の要件を満たす場合にグレースピリオドが認められる。また、公序良俗に反する意匠、コンピュータ・プログラム、彫刻品等については、意匠登録が認められていない。なお、シンガポールにおける意匠出願の審査は方式審査のみであり、方式審査において審査されるのは方式要件のみのため、方式審査において新規性の有無や不登録事由該当性等に関する判断が行われるわけではない。ただし、出願書類上明らかに不登録事由に該当する場合等は登録が拒絶され得る。

  • 2013.12.20

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    • 統計
    • 出願実務
    • 審決例・判例
    • その他参考情報
    • 意匠

    シンガポールにおける意匠登録制度及びその運用実態

    (2022年5月13日訂正:
    本記事のソース「ASEAN諸国の意匠登録制度及びその運用実態に関する調査研究」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。)

    「ASEAN諸国の意匠登録制度及びその運用実態に関する調査研究」(2013年2月、日本国際知的財産保護協会)II.5、III.5では、シンガポールにおける意匠登録制度全般について詳しく説明されている。具体的には、意匠登録制度の法令、規則等の整備状況や、管轄部局の組織図、出願書類、登録要件、権利の効力範囲、裁判例等が説明され、資料編では、ガイドラインや審査フロー図等が掲載されている。

  • 2013.11.28

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    • 審決例・判例
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    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    シンガポールにおける未登録知的財産権の保護

    「ASEANにおける特許権、意匠権、商標権などの産業財産権登録に拠らない発明、意匠、商標の保護に関する調査」(2013年4月、日本貿易振興機構バンコク事務所知的財産部)では、シンガポールにおける未登録知的財産権の保護に係る制度、法令、裁判例等について解説されている。具体的には、営業秘密としてのノウハウの保護、周知・著名の商標の保護等について解説されている。