ホーム サイト内検索

■ 全121件中、7180件目を表示しています。

  • 2014.08.08

    • アジア
    • 出願実務
    • 商標

    シンガポールにおけるシリーズ(連続)商標注目コンテンツ

    シンガポールでは、シリーズ(連続)商標については、複数の商標見本(願書で商標態様を示す見本)であっても単一の出願とすることができる。ただし、各商標の主要な特徴が本質的に同一であり、各商標の相違点が本質的に識別力のない点におけるものであって、商標全体において本質的な商標の同一性に影響を与える要素を含んでいないことが要件である。

  • 2014.07.22

    • アジア
    • 出願実務
    • 商標

    シンガポールにおける指定商品又は役務の願書への記載方法注目コンテンツ

    シンガポールにおいては、商標の出願人は、指定商品又は役務を記載する際にクラスヘディング(各類に属する商品又は役務の見出し)を使用することが可能である。また、多区分を指定しての出願も可能である。

  • 2014.07.11

    • アジア
    • 法令等
    • 制度動向
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける特許法改正の概要(2014年2月14日施行)注目コンテンツ

    シンガポールでは、改正特許法が2012年7月10日に成立し、2014年2月14日に施行された。同改正により、自己査定型の特許制度(self-assessment patent system)から肯定的結果に基づく付与制度(positive grant system)へシフトし、シンガポール特許庁が発行する審査内容に関する報告書が肯定的な出願のみが特許を付与されることになった。

  • 2014.06.17

    • アジア
    • 出願実務
    • 意匠

    シンガポールにおける意匠の登録事由と不登録事由注目コンテンツ

    シンガポールにおいて意匠登録が認められるためには新規性が必要であるが、一定の要件を満たす場合にグレースピリオドが認められる。また、公序良俗に反する意匠、コンピュータ・プログラム、彫刻品等については、意匠登録が認められていない。なお、シンガポールにおける意匠出願の審査は方式審査のみであり、方式審査において審査されるのは方式要件のみのため、方式審査において新規性の有無や不登録事由該当性等に関する判断が行われるわけではない。ただし、出願書類上明らかに不登録事由に該当する場合等は登録が拒絶され得る。

  • 2014.05.27

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける特許出願書類注目コンテンツ

    シンガポールでは、特許出願書類として、願書、明細書、クレーム、図面、要約書が必要であり、出願手続は英語で行わなければならない。

  • 2014.05.20

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける優先権主張を伴う特許出願注目コンテンツ

    シンガポールもパリ条約締結国であるため、優先権主張に伴う特許出願が認められる。優先権主張期間は基礎出願日から12ヶ月以内であり、部分優先や複数優先も認められる。

  • 2014.05.13

    • アジア
    • 出願実務
    • 商標

    シンガポールにおける英語以外の言語を含む商標の出願注目コンテンツ

    シンガポールにおいて、日本語で使われる文字(ひらがな、カタカナ、漢字)等、ローマ字以外の文字や英語以外の言語より構成される、又はこれらを含む商標の出願を行う場合、願書に当該文字、言語の英語翻訳等を記載する必要がある。

  • 2014.05.07

    • アジア
    • 出願実務
    • 意匠

    シンガポールにおいて意匠出願人となる者注目コンテンツ

    シンガポールでは、原則として、意匠登録を受ける権利は創作者に原始的に帰属するが、雇用期間中に従業者により創作された場合等は、創作者に帰属しない旨が定められている。

  • 2014.04.15

    • アジア
    • ライセンス・活用
    • 特許・実用新案

    シンガポール特許のライセンス・オブ・ライト(実施許諾用意)制度注目コンテンツ

    シンガポールでも特許をライセンス許諾することができるが、ライセンス・オブ・ライト制度(実施許諾用意制度)を利用すれば、更新手数料を半額にすることができる。

  • 2014.04.08

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける特許出願公開制度注目コンテンツ

    シンガポールでは、特許出願後18ヶ月経過後に出願内容が公開されるが、早期公開制度もある。特許出願の公開を止めるためには、公開準備完了前に出願を取り下げる必要があるが、公開準備が完了する時期は厳密に決まっているわけではないため、出願後、可及的速やかに出願を取り下げるのが望ましい。