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■ 全161件中、5160件目を表示しています。

  • 2016.04.21

    • 中南米
    • ライセンス・活用
    • 特許・実用新案
    • その他

    メキシコにおける特許ライセンスおよび技術移転への競争法上の規制注目コンテンツ

    メキシコにおける特許ライセンスおよび技術移転の契約を締結する際の留意点、特に契約当事者がメキシコの競争法(日本の独占禁止法に相当)に照らして留意すべき制限的な契約条項について取り上げる。また、この種のライセンス契約において、ライセンシーから求められるであろうライセンサーの保証についてもいくつか指摘する。

    本稿では、メキシコにおける特許ライセンス契約および技術移転について、Clarke, Modet & Co Mexicoの弁護士Segio G. Gónzalez Guillén氏が解説している。

  • 2016.04.05

    • アフリカ
    • 法令等
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案

    エジプトにおける先使用権制度注目コンテンツ

    「先使用権制度に関する調査研究報告書」(平成23年3月、日本国際知的財産保護協会)Ⅲ-3-「1」では、エジプトにおける先使用権制度について、先使用権制度の有無と条文規則、先使用権の成立要件、基準日、先使用権の対象となる行為、実施と新規性の関係、先使用権者が実施できる範囲、先使用権の移転に関わる問題等が、Q&A形式で説明されている。

  • 2016.04.01

    • アフリカ
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    タンザニアにおける知的財産権関連制度の運用実態注目コンテンツ

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)4-(6)では、タンザニアにおける知的財産権関連制度の運用実態について、タンザニアの一般情報、知的財産権関連制度(特許・意匠・商標・著作権)の運用実態上の課題・留意点・リスク、さらにエンフォースメント環境や権利取得手続に要する時間的・金銭的コスト、ライセンス契約/海外送金等における規制等が紹介されている。

  • 2016.03.25

    • アフリカ
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    ナイジェリアにおける知的財産権関連制度の運用実態注目コンテンツ

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)4-(5)では、ナイジェリアにおける知的財産権関連制度の運用実態について、ナイジェリアの一般情報、知的財産権関連制度(特許・意匠・商標・著作権)の運用実態上の課題・留意点・リスク、さらにエンフォースメント環境や権利取得手続および訴訟手続等に要する時間的・金銭的コスト、ライセンス契約/海外送金等における規制等が紹介されている。

  • 2016.03.18

    • アフリカ
    • 統計
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    ケニアにおける知的財産権関連制度の運用実態注目コンテンツ

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)4-(3)では、ケニアにおける知的財産権関連制度の運用実態について、ケニアの一般情報、知的財産権関連制度(特許・意匠・商標)の運用実態上の課題・留意点・リスク、さらにエンフォースメント環境や権利取得手続および訴訟手続等に要する時間的・金銭的コスト、ライセンス契約/海外送金等における規制、統計情報等が紹介されている。

  • 2016.03.15

    • アジア
    • 法令等
    • 制度動向
    • 特許・実用新案
    • 商標

    インドネシアにおける商標法および特許法の改正動向注目コンテンツ

    インドネシアでは、2008年に商標法改正案が、2012年に特許法改正案が公表され、それぞれ政府による改正作業が続けられている。公表された商標法改正案には、出願手続や更新手続の改正や保護対象の拡大などが盛り込まれ、特許法改正案には、電子出願の導入や、簡易特許(日本における「実用新案」に相当。)の定義の改正(組成物の追加)、強制実施権の付与などが盛り込まれている。公表された改正案に対する修正等については明らかにされておらず、最終的にどのような改正が行われるのか、引き続き注視が必要である。

  • 2016.03.11

    • アフリカ
    • 統計
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    エジプトにおける知的財産権関連制度の運用実態注目コンテンツ

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)4-(2)では、エジプトにおける知的財産権関連制度の運用実態について、エジプトの一般情報、知的財産権関連制度(特許・意匠・商標)の運用実態上の課題・留意点・リスク、さらにエンフォースメント環境や権利取得手続および訴訟手続等に要する時間的・金銭的コスト、ライセンス契約/海外送金等における規制、統計情報等が紹介されている。

  • 2016.02.23

    • アジア
    • 出願実務
    • 制度動向
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案

    韓国における改正特許審査指針書の概要注目コンテンツ

    韓国では、特許審査指針書(日本における特許・実用新案審査基準に相当。)が2015年1月1日付で改正され、その主な改正内容は、(1)審査着手前の予備審査制度の導入、(2)補正案レビュー制度の導入、(3)優先審査対象の拡大、および(4)非弁理士の代理業務禁止の明確化である。

  • 2016.02.16

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    フィリピンにおける特許審査基準関連資料注目コンテンツ

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅲ部3では、フィリピンにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。

  • 2016.02.12

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    タイにおける特許審査基準関連資料注目コンテンツ

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅲ部5では、タイにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。