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■ 全65件中、2130件目を表示しています。

  • 2016.04.14

    • 中南米
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • その他

    メキシコにおける営業秘密の保護注目コンテンツ

    メキシコでは営業秘密は産業財産法(Industrial Property Law : IPL)に基づき保護され、同法第82条において、「個人もしくは企業が保有し、秘密性を有し、かつ、経済活動を行う上で第三者に対する競争上または経済上の利益の確保もしくは維持に関連する、産業上もしくは商業上の利用可能性を有する情報であって、それに関して当該個人もしくは企業が、利用を制限し秘密性を維持する十分な手段もしくはシステムを採用しているもの」と定義されている。IPLのほか、連邦労働法(Federal Labor Law:FLL)および連邦刑法(Federal Criminal Law:FCL)にも営業秘密保護に関する具体的な規定が含まれている。

    本稿では、メキシコにおける営業秘密の保護について、Clarke, Modet & Co Mexicoの弁護士Jose Miguel Mena Lopez氏が解説している。

  • 2016.03.01

    • 中南米
    • 法令等
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • その他

    ペルーにおける遺伝資源の出所開示の制度・運用・実施状況注目コンテンツ

    「知的財産と遺伝資源の保護に関する各国調査研究報告書」(平成25年2月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅳ部4.2では、ペルーにおける遺伝資源の出所開示について、出所開示要件に関する法制度、特許制度に関する権限ある国内機関、遺伝資源の開示要件、開示義務違反に対する措置や罰則、遺伝資源の出所開示に関する法制度の運用等が紹介されている。

  • 2016.03.01

    • 中南米
    • 法令等
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • その他

    ボリビアにおける遺伝資源の出所開示の制度・運用・実施状況注目コンテンツ

    「知的財産と遺伝資源の保護に関する各国調査研究報告書」(平成25年2月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅳ部4.3では、ボリビアにおける遺伝資源の出所開示について、特許制度に関する規定、遺伝資源アクセスに関する規定、遺伝資源の開示要件、権限ある国内機関、開示義務違反に対する罰則や措置、アクセス承認機関、遺伝資源へのアクセス条件とアクセス手続き等が条文を交えて紹介されている。

  • 2016.03.01

    • 中南米
    • 法令等
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • その他

    アンデス共同体における遺伝資源の出所開示の制度・運用・実施状況注目コンテンツ

    「知的財産と遺伝資源の保護に関する各国調査研究報告書」(平成25年2月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅳ部4.1では、アンデス共同体における遺伝資源の出所開示について、出所開示要件に関連する条文や定義、開示要件の内容、開示義務違反に対する措置や罰則、アクセス承認手続き、アクセス承認機関等が条文を交えて紹介されている。

  • 2016.02.16

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    フィリピンにおける特許審査基準関連資料注目コンテンツ

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅲ部3では、フィリピンにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。

  • 2016.02.12

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    タイにおける特許審査基準関連資料注目コンテンツ

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅲ部5では、タイにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。

  • 2016.02.09

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける特許審査基準関連資料注目コンテンツ

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅲ部1では、シンガポールにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。

  • 2016.02.05

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    マレーシアにおける特許審査基準関連資料注目コンテンツ

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅲ部6では、マレーシアにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。

  • 2016.02.02

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 商標

    中国改正商標法について留意すべき点注目コンテンツ

    「中国・改正商標法マニュアル」(2015年3月、日本貿易振興機構 進出企業支援・知的財産部 知的財産課)四では、中国における第三次商標法改正による変化に伴う留意すべき点について、具体的には、音声商標の導入や商標登録更新期間の変更、商標権譲渡手続きの変化等の申請案件の変化に伴う留意点、審査・審理期限の明文化や未登録商標に対する保護の強化、懲罰的賠償制度の導入等の商標権利保護に関する変化に伴う留意点等について紹介されている。

  • 2016.02.02

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    インドネシアにおける特許審査基準関連資料注目コンテンツ

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅲ部2では、インドネシアにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。