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■ 全29件中、2129件目を表示しています。

  • 2014.11.04

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • ライセンス・活用
    • 審決例・判例
    • その他参考情報
    • 商標

    インドにおける商標制度の概要注目コンテンツ

    「模倣対策マニュアル インド編」(2014年3月、日本貿易振興機構) 第1章 第2節では、インドにおける商標制度の概要、2013年施行の改正法及び改正規則による改正点、国際条約の加盟状況、商標の定義、出願手順、商標の類似性判断、商標侵害行為等が説明され、商標権侵害を構成する行為ついても判例とともに説明されている。又、インドにおける商標に関するベストプラクティスも紹介されている。

  • 2014.10.24

    • アジア
    • 法令等
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    香港における譲渡および実施許諾注目コンテンツ

    「模倣対策マニュアル 香港編」(2014年3月、日本貿易振興機構)第3章では、香港おける譲渡、実施許諾や技術移転について紹介されている。具体的には、商標、特許、意匠等の譲渡・許諾契約において検討すべき事項、取引行為の有効性に関する法的要件等について紹介されている。

  • 2014.10.17

    • アジア
    • ライセンス・活用
    • 審決例・判例
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    インドネシアにおけるライセンス及び秘密管理に関する法制度と実務運用注目コンテンツ

    「我が国企業の新興国への事業展開に伴う知的財産権のライセンス及び秘密管理等に関する調査研究報告書」(2012年2月、知的財産研究所)Ⅲ-5では、インドネシアにおけるライセンス及び秘密管理に関する法制度、ライセンス契約書の作成やライセンス登録の手続き、ロイヤルティ送金等のライセンス実務、営業秘密の保護要件、契約上の対策・秘密管理方法等の秘密管理の実務等が説明され、ライセンス及び営業秘密関連のトラブル事例や判例も紹介されている。

  • 2014.07.11

    • アジア
    • 審判・訴訟実務
    • 審決例・判例
    • 特許・実用新案

    台湾における特許の「権利消尽」の訴訟実務注目コンテンツ

    本件は、製造業者が特許権者から実施許諾された製造設備を購入した後、その製造設備を「使用」して製品を製造することについて権利消尽原則を主張できるか否かが争われた事案である。2013年9月16日付民国101年度民專訴字第73号判決は、知的財産法院によりはじめてその見解を示し、権利消尽原則を適用するかについては、特許権者が二重利益を獲得していないか及び商品取引の流通を妨げていないかをもとに判断すべきであるとした。

  • 2014.04.25

    • 中東
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • その他

    アラブ首長国連邦における技術移転の現状注目コンテンツ

    本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。

    「模倣対策マニュアル 中東編」(2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課)第1部第2章第7節では、アラブ首長国連邦(UAE)における技術移転の現状について紹介されている。同国では、投資家を誘致するため、フリーゾーン(UAE領土内の一部で、この地域に搬入される商品は、関税地域の外部に存在するものとみなされ、通常の税関手続きと管理の適用を受けずに商業活動又は産業活動が行われる地域)を開設し、同地域への直接投資、合弁事業契約又は実施/使用許諾契約を通じて技術移転が行われている。

  • 2014.03.06

    • 中東
    • 出願実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 商標

    アラブ首長国連邦における商標制度注目コンテンツ

    本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。

    「模倣対策マニュアル 中東編」(2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課)第1部第2章第3節では、アラブ首長国連邦(UAE)における商標制度について紹介されている。具体的には、商標制度、登録手続き、必要書類、手数料、登録の取消、周知商標の保護、譲渡及び使用許諾等について紹介されている。UAEでは、商品及び役務の区分はニース協定の国際分類に対応し、商標出願は1区分ごとに行う。商標権の存続期間は出願日から10年である。

  • 2014.03.05

    • 中東
    • 出願実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 商標
    • その他

    イランにおける商標制度注目コンテンツ

    本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。

    「模倣対策マニュアル 中東編」(2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課)第4部第2章第3節~第4節では、イランにおける商標制度について紹介されている。具体的には、外国案件の出願、審査、不登録事由、拒絶に対する抗告、登録異議申し立て、存続期間、不使用取消、使用許諾契約、刑事罰、商号等について紹介されている。

  • 2013.09.20

    • アジア
    • 法令等
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • その他

    マレーシアにおける技術移転・使用許諾注目コンテンツ

    「模倣対策マニュアル マレーシア編」(2013年3月、日本貿易振興機構)第3章では、マレーシアにおける技術移転や実施(使用)許諾について紹介されている。具体的には、技術移転の対象となるもの、技術移転の方法をはじめ、優遇措置、ロイヤリティへの課税、フランチャイズ契約等について紹介されている。

  • 2013.09.06

    • 中南米
    • 出願実務
    • 商標

    ブラジルにおける商標出願制度注目コンテンツ

    「模倣対策マニュアル ブラジル編」(2011年3月、日本貿易振興機構)第1章第3節には、ブラジルにおける商標出願制度、商標の種類、登録要件、出願手続、無効請求等について紹介されている。