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シンガポールにおける政府による各種優遇・支援制度

2013年11月05日

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■概要
「模倣対策マニュアル シンガポール編(簡易版)」(2012年3月、日本貿易振興機構)第2章2.7では、シンガポールにおける知的財産権や研究開発に関連する税制優遇制度について、具体的には、知的財産権に関する自動減価償却控除制度、自由化研究開発(R&D)課税控除制度、R&D課税控除(RDA)制度、新興企業向けR&Dインセンティブ(RISE)、生産性・技術革新控除制度(PIC)について、紹介されている。
■詳細及び留意点

 模倣対策マニュアル シンガポール編(簡易版)(2012年3月、日本貿易振興機構)第2章2.7

 

(目次)

第2章 知的財産の管理

2.7 政府による支援/優遇制度 p.86

   知的財産権に関する自動減価償却控除制度 p.86

     自由化研究開発(R&D)課税控除制度 p.86

   R&D課税控除(RDA)制度 p.86

   新興企業向けR&Dインセンティブ制度(RISE) p.86

   生産性・技術革新控除制度(PIC) p.87

■ソース
・模倣対策マニュアル シンガポール編(簡易版)(2012年3月、日本貿易振興機構)
http://www.globalipdb.inpit.go.jp/jpowp/wp-content/uploads/2013/09/1a888e0d4e8da846dd617f27ccbf9614.pdf
■本文書の作成者
一般財団法人比較法研究センター 清水利明
■本文書の作成時期

2013.09.04

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