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台湾における特許出願および意匠出願の審査官面接

2018年07月05日

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■概要
台湾知的財産局は、2017年7月1日から新面接制度の正式な運用を開始し、それに伴い、面接作業要点も改定された。新面接制度は、旧制度よりも運用面における柔軟性が増しており、審査の質および効率の向上につながることが期待されている。

本稿では、台湾における特許出願および意匠出願の審査官面接について、理律法律事務所 弁理士 郭家佑氏が解説している。
■詳細及び留意点

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■本文書の作成者
理律法律事務所 
郭家佑
■協力
日本技術貿易株式会社
■本文書の作成時期
2018.01.31
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