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■ 全127件中、110件目を表示しています。

  • 2019.09.05

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 意匠

    シンガポールにおける意匠の公開延期請求について

    シンガポールにおいては、意匠は、登録意匠法または著作権法によって保護される。意匠を登録意匠法により保護するために出願すると、その意匠は登録により公開されるが、出願日から18か月間にわたって登録意匠の公開を延期するよう請求することが可能である。また、意匠を美術著作物として著作権法で保護する場合、当該意匠が産業的な利用をされない限り、これを秘密に保つことができる。

  • 2019.09.05

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける特許新規性喪失の例外注目コンテンツ

    シンガポールにおいて発明が新規とみなされるのは、絶対的新規性要件を満たしている場合だけである。ただし、シンガポールの法律が規定する猶予期間(グレースピリオド、日本と同様12か月)内であれば、出願の提出日より前の一般開示は、発明の新規性評価の際に無視される。2017年10月の改正により、発明者により行われた開示、または発明者から直接的または間接的に発明の主題を知った者が行うあらゆる開示を包括的に対象とすべく、発明の新規性喪失の例外規定の適用範囲が拡大された。シンガポール知的財産庁(IPOS)は、発明の新規性喪失の例外規定の拡大は、発明が出願に先立って公知となった場合の限定的なセーフティネットを提供するものであり、各国で同様の例外規定があるわけではないため、出願前に発明を公知とすることのないよう、出願人に注意を呼び掛けている。

  • 2019.07.30

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 意匠

    シンガポールにおける意匠登録出願制度概要

    シンガポールにおける主な意匠登録出願手続は、出願、方式審査、登録証の発行および意匠登録の公告の手順で進められる。意匠登録出願手続では、実体審査が行われず、方式審査のみが行われる。意匠権の存続期間は、登録日から5年であるが、2回まで存続期間を5年間延長でき、最長で登録日から15年である。

  • 2019.07.30

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 商標

    シンガポールにおける商標登録出願制度概要

    シンガポールにおける主な商標登録出願手続は、出願、方式審査、実体審査、商標登録出願の公告、登録証の発行の手順で進められる。商標登録出願の公告日から2月の期間内に異議申立てをすることができ、異議申立てがなかった場合または異議申立てが却下された場合に、登録証が発行される。商標権の存続期間は、登録日から10年であり、更新により10年間延長できる。

  • 2019.07.25

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける特許出願制度概要注目コンテンツ

    シンガポールにおける主な特許出願手続は、出願、出願日の通知、方式審査、出願公開、調査および審査、特許付与の通知、特許付与、特許証の発行および公告の手順で進められる。調査および審査では、シンガポール知的財産庁が調査および実体審査を行うオプション、対応外国出願の調査結果を用いて実体審査を行うオプション、対応外国出願の調査結果および審査結果を用いて補充審査を行うオプションが選択可能である。特許権の存続期間は、出願日から20年である。

  • 2019.06.11

    • アジア
    • 法令等
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    シンガポールの法令へのアクセス方法―AGCウェブサイト注目コンテンツ

    シンガポールにおける法令は、シンガポール司法長官室(Attorney General’s Chambers: AGC)のウェブサイトにて検索閲覧が可能である。サイトは英語で運営されている。

  • 2019.04.02

    • アジア
    • 法令等
    • 意匠

    シンガポールの意匠関連の法律、規則等

    シンガポールの意匠関連の法律、規則等を示す。

  • 2019.04.02

    • アジア
    • 法令等
    • 商標

    シンガポールの商標関連の法律、規則、審査基準等注目コンテンツ

    シンガポールの商標関連の法律、規則、審査基準等を示す。

  • 2019.03.19

    • アジア
    • 制度動向
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • その他

    シンガポールにおけるスタートアップおよび知的財産に関する政策および支援注目コンテンツ

    「スタートアップが直面する知的財産の課題および支援策の在り方に関する調査研究」平成30年3月、三菱UFJリサーチ&コンサルティング)資料V.2では、シンガポールにおける産業政策の概況、スタートアップ政策、知的財産政策について紹介している。また、スタートアップ支援や知的財産支援に関連する大学、ベンチャーキャピタル、および公的技術移転機関として、南洋理工大学(NTUitive)、Rebright PartnersおよびETPL(Exploit Technologies Pte Ltd)について紹介している。

  • 2019.02.21

    • アジア
    • 法令等
    • 特許・実用新案

    シンガポールの特許関連の法律、規則、審査基準等注目コンテンツ

    シンガポールの特許関連の法律、規則、審査基準等を示す。