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■ 全8件中、18件目を表示しています。

  • 2019.06.20

    • アジア
    • その他参考情報
    • その他

    ミャンマー政府による研究開発を含む知的財産に関する各種優遇・支援制度

    ミャンマー政府による知的財産に関する各種優遇・支援制度として、外国からの投資を促進するための制度があり、その中には、知的財産と関連が深いと考えられる研究開発に関する税制上の優遇制度も存在する。現状では、日本などにおいてみられる出願手数料等の減免や、補助金の支給といった制度はない。

  • 2016.04.13

    • アジア
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠

    中国における職務発明条例(草案)と科学技術成果転化促進法(改正)の解説注目コンテンツ

    中国において、修正が重ねられてきた職務発明規程(草案)が2015年中国国務院に提出されたが、その公布・施行の時期は未だ不明である。一方、2015年に改正され、同年10月1日に施行された「科学技術成果転化促進法」には、科学技術成果の実施に関し、職務発明条例(草案)と同様な趣旨の規定が設けられている。

    本稿では、中国における職務発明条例(草案)と科学技術成果転化促進法(改正)について、天達共和法律事務所 張青華 弁護士が解説している。

  • 2014.09.16

    • アジア
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 商標
    • その他

    韓国における契約書の作成注目コンテンツ

    「韓国ライセンスマニュアル」(2011年3月、日本貿易振興機構)第6編では、韓国における契約書の作成について紹介されている。具体的には、ライセンス契約書全体の構成を前文、本文及び後文にわけ、前文については、導入部、説明部及び約因部、本文については、定義条項、実施許諾条項及び技術指導条項等、各項目に含まれる具体的な条項を列挙し、それぞれの内容について紹介されている。

  • 2014.02.20

    • アジア
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    台湾進出における技術流出防止策注目コンテンツ

    「商標とトレードドレスによる権利保護 台湾進出における知的財産戦略」(2013年3月、交流協会)B.第三章第二節では、日本企業の台湾における子会社、支社、合弁会社及び関連企業の管理、並びに対外取引において持つべき知的財産権の管理意識及び設立すべき管理制度について説明されている。具体的には、従業員への教育訓練、秘密保持条項を含む契約の締結及び機密文書の取扱い等について説明されている。

  • 2014.02.05

    • アジア
    • 審決例・判例
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • その他

    中国における職務発明関係の判例等注目コンテンツ

    「職務創造発明者、考案者への奨励、報酬紛争をめぐる法律問題の研究調査レポート」(2011 年12月、日本貿易振興機構北京事務所知識産権部)第三部分では、中国における職務発明に係る紛争に関する裁定書(4件)、仲裁書(4件)、判決書(24件)について、事案の概要、当該事案における法律問題(職務発明の認定問題、訴訟時効、奨励・報酬金額の確定等の争点)、その法律問題についての裁判官の意見が紹介されている。

  • 2013.12.13

    • アジア
    • 出願実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • その他

    ベトナムにおける技術情報輸出規制注目コンテンツ

    「ASEANにおける技術情報輸出規制に関する調査報告書」(2013年4月、日本貿易振興機構バンコク事務所知的財産部)では、ベトナムにおける技術情報輸出規制について紹介されている。具体的には、「技術情報の移転および技術輸出の制限」、「監督官庁による必須許認可」、「外国出願に関する規制の枠組み」について紹介されている。

  • 2013.11.19

    • アジア
    • 法令等
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • その他

    マレーシアにおける技術情報輸出規制注目コンテンツ

    「ASEANにおける技術情報輸出規制に関する調査報告書」(2013年4月、日本貿易振興機構バンコク事務所知的財産部)のマレーシアの項目では、マレーシアにおける技術情報輸出規制について紹介されている。具体的には、「技術情報の移転および技術輸出の制限」、「監督官庁による必須許認可」、「外国出願に関する規制の枠組み」、「必須免許および規制認可」の制度について紹介されている。

  • 2013.11.05

    • アジア
    • その他参考情報
    • その他

    シンガポールにおける政府による各種優遇・支援制度注目コンテンツ

    「模倣対策マニュアル シンガポール編(簡易版)」(2012年3月、日本貿易振興機構)第2章2.7では、シンガポールにおける知的財産権や研究開発に関連する税制優遇制度について、具体的には、知的財産権に関する自動減価償却控除制度、自由化研究開発(R&D)課税控除制度、R&D課税控除(RDA)制度、新興企業向けR&Dインセンティブ(RISE)、生産性・技術革新控除制度(PIC)について、紹介されている。