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■ 全7件中、17件目を表示しています。

  • 2017.12.05

    • 中東
    • 法令等
    • 統計
    • 出願実務
    • 特許・実用新案
    • 商標

    カタールにおける四法の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアル注目コンテンツ

    「中東諸国における特許・実用新案・意匠・商標の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアルに関する調査研究 報告書」(平成29年3月、日本国際知的財産保護協会)第2部Iでは、カタールにおける四法の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアルについて、出願制度の概要や審査の実態が、特許、商標の権利種別毎に条文やフローチャートを交えて説明されている。審査基準・審査マニュアルは特に整備されていない。なお、実用新案制度はなく、意匠制度の運用もまだ開始されていない。

  • 2017.11.28

    • 中東
    • 法令等
    • 統計
    • 出願実務
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    サウジアラビアにおける四法の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアル注目コンテンツ

    「中東諸国における特許・実用新案・意匠・商標の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアルに関する調査研究 報告書」(平成29年3月、日本国際知的財産保護協会)第2部Jでは、サウジアラビアにおける四法の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアルについて、出願制度の概要や審査の実態が、特許、意匠、商標の権利種別毎に条文やフローチャートを交えて説明されているとともに、審査基準・審査マニュアルへのアクセス方法等が紹介されている。なお実用新案制度はない。

  • 2017.06.13

    • アジア
    • 法令等
    • その他参考情報
    • 商標

    香港における商標異議申立制度注目コンテンツ

    香港においては、何人も、出願の公告日から3ヵ月以内に、香港知的財産局(Hong Kong Intellectual Property Department)商標登録所(Trade Mark Registry)(以下、「商標登録所」に対し、異議申立を提起することができる。一般的な異議申立理由は、相対的理由および絶対的理由に基づく。当事者双方が和解交渉を希望する場合、任意の時期に異議申立手続の一時停止を申請することができる。手続の一時停止は、出願人と異議申立人の両者によって共同で申請されなければならない。商標登録所は、最大9ヵ月までの停止期間を認めることができる。

  • 2017.02.22

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 商標

    香港における商標のコンセント制度注目コンテンツ

    「商標制度におけるコンセント制度についての調査研究報告書」(平成28年2月、株式会社サンビジネス)Ⅲ-3-(1)-(vi)では、香港における商標のコンセント制度について、香港商標条例に規定されているコンセント制度の概要が説明されている。さらにⅢ-3-(3)では各国のコンセント制度が一覧表で比較されている。また、資料として質問票に対する現地回答、および香港商標条例における関連規定が紹介されている。

  • 2016.03.25

    • アフリカ
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    ナイジェリアにおける知的財産権関連制度の運用実態注目コンテンツ

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)4-(5)では、ナイジェリアにおける知的財産権関連制度の運用実態について、ナイジェリアの一般情報、知的財産権関連制度(特許・意匠・商標・著作権)の運用実態上の課題・留意点・リスク、さらにエンフォースメント環境や権利取得手続および訴訟手続等に要する時間的・金銭的コスト、ライセンス契約/海外送金等における規制等が紹介されている。

  • 2016.03.18

    • アフリカ
    • 統計
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    ケニアにおける知的財産権関連制度の運用実態注目コンテンツ

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)4-(3)では、ケニアにおける知的財産権関連制度の運用実態について、ケニアの一般情報、知的財産権関連制度(特許・意匠・商標)の運用実態上の課題・留意点・リスク、さらにエンフォースメント環境や権利取得手続および訴訟手続等に要する時間的・金銭的コスト、ライセンス契約/海外送金等における規制、統計情報等が紹介されている。

  • 2016.01.15

    • アジア
    • 法令等
    • 統計
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • その他参考情報
    • 商標

    インドにおける商標制度の運用実態注目コンテンツ

    「ブラジル・メキシコ・コロンビア・インド・ロシアの産業財産権制度及びその運用実態に関する調査研究報告書」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第2部-IV-Eでは、インドにおける商標制度の運用実態について、商標制度の枠組、商標出願から登録までの手続の流れ、商標出願審査の内容、商標出願や登録に関する統計情報等について、関連条文やフローチャートを交えて紹介されている。