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■ 全19件中、110件目を表示しています。

  • 2018.10.09

    • アジア
    • 法令等
    • 審判・訴訟実務
    • 特許・実用新案

    台湾司法実務における均等論についての規定および適用注目コンテンツ

    均等論は、特許権侵害を判断する上で重要な役割を果たす。均等論の適用に関する最新の重要な規定は、2016年2月に台湾知的財産局(TIPO)により新しく発表された「専利侵害判断要点」に示されている。そこでは、米国における理論および実務である、オール・エレメント・ルール、非実質的相違テスト、三要素テスト(機能-方法-結果テスト)、先行技術の制限効果、および出願経過禁反言などが採用されている。

  • 2018.02.08

    • アジア
    • 出願実務
    • 審決例・判例
    • 意匠

    韓国の意匠登録出願における参考図の取扱い注目コンテンツ

    「意匠制度の利便性向上に向けた運用の見直しに関する調査研究報告書」(平成29年3月、株式会社三菱総合研究所)II-2-(3)-(vi)では、韓国の意匠登録出願における図面の取扱いについて、通常出願の審査や拡大先願の審査における必須図面、必須図面だけではデザインを十分に表現できない場合に付加される付加図面(例えば、展開図、断面図、拡大図)とデザインの用途等に対する理解を助けるための参考図面(例えば、使用状態図)の取扱いが説明されている。また、同II-3-(4)-C17およびC18では、参考図面の取扱いにかかる裁判例が紹介されている。

  • 2018.02.08

    • アジア
    • 出願実務
    • 審決例・判例
    • 意匠

    中国の意匠登録出願における参考図の取扱い注目コンテンツ

    「意匠制度の利便性向上に向けた運用の見直しに関する調査研究報告書」(平成29年3月、株式会社三菱総合研究所)II-2-(3)-(v)では、中国の意匠登録出願における参考図の取扱いについて、通常出願の審査における取扱い、拡大先願の審査における使用状態参考図の取扱い、意匠の類比判断における使用状態参考図の取扱いが説明されている。また、同II-3-(4)-C15およびC16では、参考図の取扱いにかかる裁判例が紹介されている。

  • 2017.06.06

    • アジア
    • 出願実務
    • 商標

    フィリピンにおけるマドリッド協定議定書の基礎商標の同一性の認証注目コンテンツ

    「マドリッド協定議定書の利用促進の観点からの調査研究報告書」(平成28年3月、日本国際知的財産保護協会)4.3.48では、フィリピンにおけるマドリッド協定議定書の基礎商標の同一性の認証について、基礎商標の同一性の認証に関する実態・運用に関する文献調査結果が紹介されている。

  • 2016.02.16

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    フィリピンにおける特許審査基準関連資料注目コンテンツ

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅲ部3では、フィリピンにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。

  • 2016.02.12

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    タイにおける特許審査基準関連資料注目コンテンツ

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅲ部5では、タイにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。

  • 2016.02.09

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける特許審査基準関連資料注目コンテンツ

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅲ部1では、シンガポールにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。

  • 2016.02.09

    • アジア
    • 出願実務
    • 意匠

    韓国におけるデザイン(意匠)の登録要件注目コンテンツ

    韓国におけるデザイン(意匠)の登録要件として、デザイン保護法第33条に基づき、i)新規性、ii)創作性、iii)工業上の利用可能性を満たさなければならず、iv)拡大された先出願主義に違反してはならない。また、v)上記要件を満たしたデザインまたはこれと類似のデザインが2以上出願された場合には、一番先に出願した者のみが登録を受けることができる。

  • 2016.02.05

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    マレーシアにおける特許審査基準関連資料注目コンテンツ

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅲ部6では、マレーシアにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。

  • 2016.02.02

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    インドネシアにおける特許審査基準関連資料注目コンテンツ

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅲ部2では、インドネシアにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。